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HORIBA真空紫外橢偏儀UVISEL 2 VUV介紹
點(diǎn)擊次數(shù):845 更新時(shí)間:2021-12-29

 

HORIBA真空紫外橢偏儀UVISEL 2 VUV概述

專為VUV 測量設(shè)計(jì),整個系統(tǒng)處于真空狀態(tài),無氧氣吸收。具備高度準(zhǔn)確性;獨(dú)YI無二的超快測量速度;快速樣品室抽真空能力,方便快速更換樣品;氮?dú)庀牧可佟?/p>

重點(diǎn)應(yīng)用領(lǐng)域

  • 超薄膜

  • 157nm 光刻新材料

  • 有機(jī)材料、高分子材料

  • 高k 材料:HfO2、Al2O3、TiO2、HfxAlyOz

  • 抗反射涂層

  • 半導(dǎo)體和介電材料電子躍遷

  • MgF2、CaF2、LaF3

HORIBA真空紫外橢偏儀UVISEL 2 VUV特點(diǎn)

★ 50KHz 高頻PEM 相位調(diào)制技術(shù)

★ 45 秒內(nèi)完成充氮?dú)?/p>

★ 2 分鐘內(nèi)完成樣品室抽真空

★ 8 分鐘內(nèi)完成光譜全譜范圍內(nèi)測量

★ 兩種工作模式:氮?dú)馇逑唇Y(jié)合抽

★ 真空、連續(xù)氮?dú)馇逑?/p>

★ 光譜范圍:147nm~850nm;147nm~2100nm